美國正在推動荷蘭ASML禁止向中國銷售DUV光刻機，從而阻止中國半導體產業的崛起。媒體表示，如果ASML同意，這將繼續擴大禁止進入中國的芯片制造設備的范圍和類別，這可能對從中國芯片制造商造成嚴重打擊。
但是據了解，國產DUV光刻機產品很快就能成批推出、規模采用。上海微電子研發出的28納米國產光刻機整機已經安排生產，再過一兩年一定能用于國產芯片的生產，而且，按中芯國際梁孟松在2020年就說到的，一定能用于規模量產7納米芯片，而且良品率還能達到業界標準吧，梁孟松當時說的是只有制造5、3納米的芯片才“只待”、也就是只需EUV光刻機，梁孟松的話自然是可信的。
放眼未來，半導體的產業鏈的可靠性和安全性都值得懷疑，國內應該引起足夠重視。
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